微量高壓光化學反應釜裝置包含：光源設備、光化學反應釜、光源及釜體溫控攪拌三大模塊組成。用于新能源及環(huán)境領域的高溫高壓光化學催化、合成、降解等反應。如：光解水制氫，光催化還原二氧化碳制甲醇，光解水，二氧化碳還原制甲烷、氮氧化物的還原降解、甲醛的高壓光催化降解等。特別適用少量樣品的反應，是昂貴或低產量樣品光催化，降解，還原的理想反應裝置。

微量高壓光化學反應釜*技術特點：

1、光源可按照客戶要求選擇，采用LCD10.1英吋液晶觸摸控制器，光源光電參數及光化學反應的溫度，攪拌等參數實時數字顯示在屏幕上，國內*。

2、更高的使用壓力及溫度設計，普通廠家提供壓力：3mpa，溫度為200℃的設計，巖征公司提供設計壓力于普通廠家4倍的安全壓力釜體設計。

3、更專業(yè)的光化學釜體設計：釜體包含壓力表、防爆裝置、進氣閥門、取樣閥門，溫度測溫探桿，耐壓透光視窗6大齊全部件，全方面監(jiān)控及采集您所需要的技術參數。

4、采用頂入式光源設計，特制防霧雙層JGS2光學級透光視窗，可特別選用藍寶石視窗。

5、嵌入式一體加熱模塊結構，加熱更均勻。釜體、加熱器可*分離。極大的方便了反應釜的拆卸工作，提高工作效率。

6、更全面的光化學反應釜的材質選擇，除了提供普通廠家提供的SU316L材質的釜體外，還提供不銹鋼內襯teflon，鈦材，鎳材，哈氏合金等非標材質釜體的定做。

巖征儀器 微量光化學高壓反應釜型號為：YZ-GHX-HP系列，對應容積分別有10ml,25ml，50ml,100ml，250ml,500ml六款可選。

巖征儀器 微量光化學高壓反應釜技術參數表：